发布时间：2024-02-11 来源：网络
证券之星消息，根据企查查数据显示四方达（300179）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种聚晶金刚石复合片”，专利申请号为CN6.9，授权日为2024年2月9日。
专利摘要：本实用新型提供了一种聚晶金刚石复合片，属于复合材料领域。该聚晶金刚石复合片包括硬质合金基体和金刚石层，金刚石层包括细粒度聚晶层和至少一层粗粒度聚晶层，至少一层粗粒度聚晶层具有隔离部和延伸部，隔离部位于细粒度聚晶层和硬质合金基体之间，延伸部位于隔离部远离硬质合金基体的一侧并延伸至细粒度聚晶层内侧。本实用新型中细粒度聚晶层与硬质合金基体之间有隔离层使二者被分隔开，降低界面上的应力集中，提高细粒度聚晶层在其轴向和径向的抗冲击性能。
今年以来四方达新获得专利授权5个，较去年同期增加了66.67%。结合公司2023年中报财务数据，2023上半年公司在研发方面投入了3117万元，同比增13.2%。
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