发布时间：2024-01-11 来源：网络
不锈钢获取高质量的镜面的传统工艺主要采用的抛光技术:电解抛光、化学抛光和机械抛光。…
氧化铝陶瓷片的表面抛光具有一定难度，原因有两个，一是氧化铝材质硬度较高，难…
智能手表后盖不锈钢抛光，需要用到CMP工艺的粗抛和精抛。搭配吉致电子抛光液和抛光垫使…
根据半导体行业工艺不同，CMP抛光液可分为介质层化学机械抛光液、阻挡层化学机…
我司是做陶瓷覆铜板的，做的是DPC工艺。板材对粗糙度和平面度有严格要求，搭配吉致电子生产的研磨垫、研磨液抛光液效果很好，可以达到我司要求，为了回馈贵司免费提供我司抛光液样品，我分享两张…
陶瓷基板厂家陈总感言： 我们是做氧化铝、氮化铝、氮化硅陶瓷基板的厂家，这些陶瓷板的硬度都是比较高的，我们对板子的RA表面粗糙度有要求，试过好多种抛光工艺，最…
我们是广东一家半导体厂商，主要是做射频滤波器件的，制程其中有一道CMP工艺要用到抛光液等耗材。 近几年随着国家半导体事业的发展，很多物料遭受国外卡脖子限制，就算能买回来不仅…
吉致电子科技有限公司创始于1997年，现已经有19年的研发经验，专注于研发化学机械抛光耗材的领域，吉致主要研发两大类产品有“抛光垫”“抛光液”。产品广泛应用于金属，光电，半导体，陶瓷，硬盘面板显示器等需要精密研磨抛光的行业，广泛用于平面抛光领域。现已跟...
吉致电子科技“拍了拍你”！嗨，亲爱的吉致伙伴们：May you have the best Christmas ever愿你度过最美好的圣诞节！MERRY CHRISTMAS 12月25日圣诞快乐。祝大家：平安喜乐，万事顺遂。“诞”愿有你，一“鹿”前行，愿…
氮化铝/氮化硅（AlN/SiN）陶瓷基板的研磨抛光，需要用粗抛和精抛两道工艺。粗抛液用来研磨快速去除表面缺陷和不良，精细抛光液用来平坦工件表面提升精度。吉致电子陶瓷专用研磨液/抛光液能减少研磨时间，同时提高陶瓷工件抛光的质量，帮助客…
化学机械抛光（CMP）是半导体晶圆制造的关键步骤，这项工艺能有效减少和降低晶圆表面的不平整，达到半导体加工所需的高精度平面要求...
随着国家对第三代半导体材料的重视，近年来我国半导体材料市场发展迅猛，其中以碳化硅SiC与氮化镓NaG为主的材料备受关注，两者经...
氧化铝抛光液在LED行业的应用广泛，如蓝宝石衬底的CMP抛光，为避免大粒径磨料对工件造成划伤，通常选用粒径为5020...
常用的半导体抛光液，按抛光对象的不同分W钨抛光液、CU铜抛光液、氧化层抛光液、STI抛光液等。其中铜抛光液slurry主要应用...
打磨碳化硅需要哪种抛光垫？ 打磨碳化硅衬底分研磨和抛光4道工序：粗磨、精磨、粗抛、精抛。抛光垫的选择根据CMP工艺...
二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺制备成的一种低金属离子高纯度CMP抛光产品。硅溶胶抛光液是以液体形式...
碳化硅衬底是以高纯硅粉和高纯碳粉作为原材料，采用物理气相传输法生长碳化硅晶体，加工制成碳化硅晶片，简单流程可概括为原料合成晶体生...
硅片抛光涉及到半导体工件的技术加工领域，硅片抛光垫的多孔结构和软性磨料材料，可以适应不同硅片材料的表面结构，达到不同表面加工的...
